利用光電化學(xué)研究緩蝕劑的作用效果
光電化學(xué)法是一種原位研究方法，該方法利用電極表面具有半導(dǎo)體性質(zhì)的氧化物、鹵化物、硫化物及鈍化膜層在合適能量的光照射下產(chǎn)生的光電效應(yīng)，獲得電極表面層組成的結(jié)構(gòu)信息。該方法對(duì)于表征半導(dǎo)體膜的光學(xué)和電子性質(zhì)、分析金屬表面層的組成。電化學(xué)系統(tǒng)中的光電效應(yīng)早已被研究者所注意。自70年代以來，隨著半導(dǎo)體光電化學(xué)理論的迅速發(fā)展，光電化學(xué)法方法作為一種有效的電化學(xué)現(xiàn)場研究技術(shù)已用于金屬電極鈍化膜結(jié)構(gòu)和組成的研究，光電化學(xué)方法除了考慮在鈍化膜/溶液界面進(jìn)行的電化學(xué)反應(yīng)外，更重要的是可用于探討鈍化膜的固態(tài)性質(zhì)。鈍化膜本質(zhì)的細(xì)微變化都將反應(yīng)在光響應(yīng)上，因此最近已有光電化學(xué)方法應(yīng)用于研究鈍化膜的局部破壞方面的報(bào)道。汪鷹等采用光電化學(xué)的方法研究了復(fù)合緩蝕劑對(duì)鋼筋鈍化膜的影響。結(jié)果表明復(fù)合緩蝕劑的加入沒有改變鋼筋鈍化膜的晶體結(jié)構(gòu)和電子性質(zhì)，它依然是無定形n型的半導(dǎo)體成相膜，但對(duì)抑制點(diǎn)蝕核的形成有明顯作用，且對(duì)鈍化膜的生長速度有加快作用，從而可能使鈍化膜的組成發(fā)生改變。徐群杰用光電化學(xué)方法研究了Cu在不同濃度NaCl的硼酸-硼砂溶液中的腐蝕以及緩蝕劑聚天冬氨酸（PASP）對(duì)Cu的緩蝕作用。Cu在硼酸-硼砂緩沖溶液中，表面的Cu2O膜為p型半導(dǎo)體。當(dāng)Cu所在的溶液中存在少量NaCl（小于0.5g/L）時(shí)，Cu表面Cu2O膜會(huì)受輕微Cl-摻雜但不會(huì)改變半導(dǎo)體性質(zhì)；當(dāng)溶液中存在較多NaCl（0.5-15g/L）時(shí)，Cu2O膜會(huì)受到Cl-較嚴(yán)重的侵蝕，Cl-摻雜使Cu2O膜部分轉(zhuǎn)成n型；當(dāng)溶液中存在大量NaCl（大于15g/L）時(shí)，Cu2O膜完全被Cl-摻雜而轉(zhuǎn)型成n型。PASP的加入能夠?qū)u起到緩蝕作用：當(dāng)NaCl濃度為2g/L時(shí)，PASP與溶液中的Cl-在Cu表面競爭吸附，明顯抑制了Cl-對(duì)Cu2O膜的摻雜，Cu2O受到了保護(hù)仍為p型。
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2013年9月5日
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